黃仁勳:中國2030年搞定國產先進光刻機

格隆匯
6小時前
英偉達CEO黃仁勳在All-In峯會上判斷,中國到2030年就能做出自己的先進光刻系統。他還認為,一旦技術成熟,中國有很強的大規模生產能力,國產設備進入本土晶圓廠只是時間問題。 這個判斷明顯比蔡司更樂觀。蔡司半導體負責人Frank Rohmund最近稱,中國要做出國產EUV光刻機,可能還需要約15年。蔡司是阿斯麥EUV光學系統的核心供應商。 不過主持人問的是「advanced lithography systems」,沒有具體限定為EUV,黃仁勳在回答中也沒有進一步說是EUV。

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