路透7月27日 - 据The Information周一报道，中国已开始生产自主研发的浸没式深紫外（DUV）光刻机，这种关键芯片制造设备长期以来一直由荷兰供应商ASMLASML.AS主导。

报道援引知情人士的话称，这些设备预计将于今年交付给中国领先的芯片制造商，包括中芯国际0981.HK、华虹半导体688347.SS和长鑫存储。

报道发布后，ASML股价下跌4.6%。

报道中的关键细节：

• 鉴于此事敏感，知情人士未透露这家国有背景制造商的名称。

• 这一突破最终可能挑战ASML在中国市场的主导地位，但该系统在性能和可靠性方面仍存在差距，在实现量产前还需要进一步测试，因此目前这家荷兰公司的优势依然稳固。

• 初期产量将受到限制，今年约生产5台DUV光刻机，2027年则增至约20台。

• 浸没式DUV光刻机用于将电路图案刻印在硅片上，在限制措施切断中国芯片制造商获取极紫外光刻（EUV）系统渠道后，这是中国芯片制造商目前可获得的最先进光刻设备。

• 中国也在研发国产EUV光刻机，不过目前仍处于原型机阶段。

• 鉴于美国正考虑进一步收紧外国光刻设备对华出口及相关维修服务限制，这项技术或可为中国芯片制造商提供关键设备的替代供应来源。