路透旧金山7月14日 - 光刻机制造商ASML(阿斯麦/艾司摩尔)周二表示，英特尔 INTC.O已决定使用ASML的高端设备来生产其部分旗舰级Panther Lake笔记本电脑芯片，此举将有助于英特尔更有效地积累该设备的应用经验。

ASML表示，英特尔从2024年开始进行试验，并已开始使用ASML的下一代高数值孔径（High NA）极紫外（EUV）光刻机。该光刻机可将电路图案转印到晶圆上，以帮助生产其部分Panther Lake处理器。

高数值孔径光刻设备造价约为4亿美元，是标准EUV光刻机的两倍。此外，将该设备应用于生产流程在技术上也极具挑战性。

英特尔正在使用高数值孔径设备对芯片的特定层进行测试，这将有助于英特尔和ASML收集数据并优化设备。

英特尔对该声明不予置评。

该公司采用其18A制造工艺生产Panther Lake芯片，并已在使用ASML的标准EUV光刻机进行生产。